В России разработали системы для запуска 65-нм техпроцесса — технология появилась у Intel ещё 20 лет назад

В России впервые созданы отечественные кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), необходимые для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм, сообщают «Ведомости». Разработка выполнена научно-исследовательскими институтами НИИМЭ и НИИТМ, входящими в группу компаний «Элемент». Оборудование рассчитано на работу с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм, что соответствует требованиям современных производств. Источник изображения: AI...

16:17, 11.12.2025

Источник: 3dnews.ru

Рубрика: «Hardware» Поделиться:

Intel разъяснила преимущества техпроцесса Intel 3 В прошлом году на открытии Fab 34 в ирландском Лейкслипе Intel опубликовала некоторые подр ...

Intel 3-E и Intel 3-PT: дальнейшие усовершенствования техпроцесса 3 нм Intel на VLSI Symposium 2024 рассказала не только об улучшениях в техпроцессе Intel 3 , по ...

Несмотря на развитие 18A техпроцесса, Intel заказывает чипы у TSMC Несмотря на то, что Intel активно развивает собственное производство чипов, в том числе че ...

Panther Lake и Clearwater Forest — мощь и энергоэффективность на базе техпроцесса Intel 18A Panther Lake станет первым продуктом компании, произведённым по новейшему техпроцессу Inte ...