Литография с использованием лазера и кремния останется главным способом выпуска чипов и в следующем десятилетии

Ещё в мае являющаяся лидером в сегменте литографических сканеров компания ASML рассказала о перспективах появления к началу следующего десятилетия систем, позволяющих работать со сверхвысоким значением числовой апертуры — 0,75 (Hyper-NA EUV). Представители Imec утверждают, что и в следующем десятилетии литография не уйдёт от использования лазеров и кремния. Источник изображения: ASML...

07:20, 13.06.2024

Источник: 3dnews.ru

Рубрика: «Hardware» Поделиться:

ASML признала, что не предложит ничего кроме кремния и лазеров для выпуска чипов и в следующем десятилетии Ещё в мае являющаяся лидером в сегменте литографических сканеров компания ASML рассказала ...

Экстремальная УФ-литография: будущее индустрии чипов Как на самом деле создаются современные процессоры? Этот процесс невероятно сложен и увлек ...

Списания грузовых вагонов в следующем десятилетии резко вырастут Но позиции экспертов и участников рынка о том, есть ли риск дефицита парка, сильно различа ...

Акции Sharp растут на фоне планов по созданию ЦОД с использованием чипов Nvidia Акции Sharp Corp. резко выросли после новостей о том, что она планирует создать центр обра ...